手机贤集

贤集技术网技术服务平台欢迎您

   客服热线:400-615-8109

登录 注册
发布需求
对接、资金托管
验收、付款(收款)
评价、结束
项目预算 面议

晶片加工指导

项目编号:XP383C0D3295

项目状态:已发布

项目分类: 非金属研发指导

所在地:河南 / 洛阳

需求内容:

1、 两种晶向(111)和(100)的硅片在腐蚀岗位,(100)晶向的为何更易出沾污(在腐蚀工序前,清洗工艺完全一样)?

2、 硅片背面做多晶,弯/翘曲为何会增大30至50μm?通过氧化炉1100℃热处理20至30S,弯/翘曲就会恢复到背封前水平,硅片经过这一高温短暂过程,是否会对硅片晶体有影响?

目前此问题上一直没有得到比较好的解决,希望能够得到更好的技术支持。


觉得需求描述的不够详细?向需求方提问: 我要提问
您对此项目的看法和相关经验: