研究替代碘系的高耐候性的染系偏光膜，通过精密的分段湿拉工艺、专有的染液配方和上色工艺、 贴合技术制成适于湿热环境的高耐候性的染系偏光膜，此类偏光膜透射比 T 约为 40%，偏光率可达 99.9%，并在 80℃、90%RH、500 小时的条件下偏光度大于 50%。望在此类技术有关深入研究或者很有能力的科研单位和专家能与我司一起合作探讨。