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真空镀膜技术:最具发展前途的重要技术之一

技术简介

真空镀膜技术主要是利用等离子体物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的膜层,从而使固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁、绝缘及装饰等许多优于固体材料本身的优越性能,达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用。被誉为最具发展前途的重要技术之一,并已在高技术产业化的发展中展现出诱人的市场前景。已在国民经济各个领域得到应用,如航空、航天、电子、信息、机械、石油、化工、环保、生物、医学和军事等领域。


技术指标

真空镀膜硬件设备主要包括小多弧离子镀膜机、大面积弧离子镀膜机、柱状靶离子镀膜机、磁过滤离子镀膜机、磁控溅射镀膜机(包括平面和柱状)、孪生磁控溅射镀膜机、非平衡磁控溅射镀膜机、射频溅射镀膜机及其复合型离子镀膜设备等系列型号,主要根据用户所处理的零部件要求达到的性能指标来确定配置和生产。


技术特点

真空镀膜技术主要用于各种材料需提高其使用性能和寿命的的零部件的表面处理,是一些传统表面处理技术如电镀、喷涂等的换代新技术。它具有环保、节约资源和经济性高等特点,被誉为最具发展前途的重要技术之一,并已在许多行业中获得了广泛的应用,而且随着社会的发展,不断涌现新的应用领域,业已展现出了诱人的市场前景。


适用范围

航空、航天、机械、电子、生物、能源等各种领域


专利状态

授权专利3项


技术状态

批量生产、成熟应用阶段


合作方式

(1)投资需求。寻求投资扩大产能,进一步扩大真空镀膜设备生产制造与镀膜加工批量处理的规模。

(2)合作研发。与相关军工单位及配套企业、高校、研究所等,可合作开展相关镀膜硬件设备与镀膜工艺的研发。

(3)技术服务。针对军民两用各相关行业的应用需求,提供真空镀膜设备的产品设计研发、加工制造、镀膜技术攻关、批量处理等服务。


预期效益

设备方面的效益:真空镀膜设备的生产能力为15台/年,产值约为3000万元,生产成本约为2000万元,毛利1000万元;来件镀膜生产效益:以微钻为例,每月可处理200万只微钻,每只按1.5元收费,则每月为300万元,每年为3000万元,毛利约1500万元。